石英矩形外延反应管制作工艺
摘要(Abstract):
<正> 随着我国电子工业的迅速发展,半导体硅材料的各项物理参数及其内在质量要求,也越来越高,这就要求我们在技术设备方面进行不断的探索。用于大规模集成电路气相工艺和硅外延生长技术的石英反应管,目前有圆形和矩形二种类型。圆形反应管虽然制作工艺简单,且成本较低,但此类反应管在气相外延生长技术上存在不少缺点:①气流分布不均匀。
关键词(KeyWords):
基金项目(Foundation):
作者(Author):
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<正> 随着我国电子工业的迅速发展,半导体硅材料的各项物理参数及其内在质量要求,也越来越高,这就要求我们在技术设备方面进行不断的探索。用于大规模集成电路气相工艺和硅外延生长技术的石英反应管,目前有圆形和矩形二种类型。圆形反应管虽然制作工艺简单,且成本较低,但此类反应管在气相外延生长技术上存在不少缺点:①气流分布不均匀。
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